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Tom's Hardware· Anton Shilov ·· 15 天前AI 评分53

美光计划用晶圆键合和High-NA EUV推进下一代DRAM

Micron plans to use wafer bonding and High-NA EUV for next-gen DRAM

摘要/原文摘录

美光已从路线图中移除4F2存储单元,计划在1ε DRAM工艺引入晶圆键合,后续世代采用High-NA EUV光刻。公司还在开发包括垂直高带宽内存在内的新型存储。

来源:Tom's Hardware · tomshardware.com

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